全密閉高低溫程序溫控設備簡介：

  高低溫恒溫循環(huán)器提供-40℃~180℃溫度范圍內(nèi)的高、低恒溫液體，以滿足用高、低溫做反應的恒溫儀器的需要。高低溫恒溫循環(huán)器特別適用與化學反應釜、發(fā)酵罐、旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)器、電子顯微鏡、阿貝折先儀、蒸發(fā)皿、生物制藥反應器等實驗設備配套使用。高低溫恒溫循環(huán)器*的內(nèi)循環(huán)和外循環(huán)泵系統(tǒng)，內(nèi)循環(huán)使儀器溫度均勻恒定，外循環(huán)泵輸出10升/分~20升/分在流量高、低溫液體。高低溫恒溫循環(huán)器的工作槽容積內(nèi)還可放入裝有生化試劑或被測樣品的各種容器，直接進行高低溫試驗或測試，實現(xiàn)一機多用。

產(chǎn)品優(yōu)勢：

全密閉管道式設計，降低導熱也需求量，降低介質(zhì)吸收水分和揮發(fā)的風險，在不需要加壓的情況下完成連續(xù)控溫。

廣泛用于半導體、新材料、生物工程、航天工業(yè)、醫(yī)療、化工等行業(yè)； 配微通道、真空設備、蒸餾系統(tǒng)、老化測試等

常見的配套設備有高壓反應釜、雙層玻璃反應釜、雙層反應釜、微通道反應器 蒸餾結(jié)晶、半導體設備冷卻、材料老化、結(jié)晶系統(tǒng)控溫

高溫時沒有導熱介質(zhì)蒸發(fā)出來，而且不需要加壓的情況下就可以實現(xiàn) -80～190℃、-70～220℃、-55～250℃連續(xù)控溫；

采用全密閉管道式設計，降低導熱液需求量的同時，提高系統(tǒng)的熱量利 用率，達到快速升降溫度。 膨脹容器中的導熱介質(zhì)不參與循環(huán)，可以降低導熱介質(zhì)在運行中吸收水分和揮發(fā)的風險

全密閉高低溫程序溫控設備技術參數(shù)：